第26章 纳米光刻机(第2/2 页)
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成功自主研发出7nm光刻机，这一成就不仅是中国科技自立自强的标志性事件，也让全球半导体产业格局面临重新洗牌。文章指出，中国科技的快速进步，迫使全球各国重新评估其技术策略和合作方向。”
【德国《明镜周刊》】
封面标题：“中国科技飞跃：从模仿到引领者”
报道要点：“梁梦松团队的成就不仅是中国半导体行业的巨大飞跃，也标志中国正从技术追随者转变为创新引领者。报道指出，尽管外界对于技术外溢效应及国际竞争格局的担忧不可避免，但中国的技术突破也为全球科技合作与进步带来了新的契机。”
【俄罗斯《生意人报》】
文章标题：“中国科技突破：7nm光刻机研发成功，全球半导体行业迎来新玩家”
文章核心：“中国成功自主研发7nm光刻机，这一消息对全球半导体市场来说既是惊喜�
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